Molybdeini -kohde

Molybdeenikohde, joka tunnetaan myös nimellä molybdeenisputteroiva kohde, on metallimolybdeenimateriaalista valmistettu metallikohde. Se on yksi tärkeimmistä materiaaleista, joita käytetään ohuiden kalvojen valmistukseen. Sitä käytetään pääasiassa ruiskutuspinnoitusprosessissa fyysisessä höyryn laskeutumistekniikassa (PVD). Se sopii myös kaikille litteille pinnoitus- ja pyöriville pinnoitusjärjestelmille.

Molybdeenillä on korkea sulamispiste, korkea johtavuus, matala spesifinen impedanssi, hyvä korroosionkestävyys ja hyvä ympäristösuorituskyky, joten molybdeenin sputterointikohde voi muodostaa molybdeenipinnoitteen eri substraateilla magnetronin sputterointiprosessin kautta. Tätä molybdeenipinnoitetta käytetään laajasti elektronisissa komponenteissa ja elektronisissa tuotteissa.

Luoyang Rare Metal Research Material Co., Ltd on erikoistunut erilaisten MO -kohteiden tuottamiseen, mukaan lukien tasomaiset kohteet ja pyörivät kohteet, peittämällä molybdeenisputterointikohteet ja molybdeenianodikohteet vastaamaan erityyppisiä magnetronisputterointilaitteita. Kaikki tuotteet räätälöidään vaatimusten mukaan.

Tuottamillamme tavoitteilla on korkea puhtaus, pieni epäpuhtauspito Samanaikaisesti voimme suorittaa massatuotannon lyhyessä ajassa, ja toimitusaika on taattu.

1) Korkea puhtaus:
MO -kohteen puhtaus on avainindikaattori sen suorituskyvystä. Yleisesti ottaen puhtaus, jonka MO -tavoite voi saavuttaa 99,95% tai jopa korkeamman. Korkea puhtaus varmistaa epäpuhtauksien minimoinnin kalvon laskeutumisprosessin aikana parantaen siten lopputuotteen laatua.

2) Suuri tiheys:
Tiheys lähellä molybdeenin teoreettista tiheyttä (10,22 g/cm³) on merkki korkealaatuisesta moliavoitteesta. Suurempi tiheys osoittaa, että materiaalissa on vähemmän tyhjiöitä ja rakenne on kompakti, mikä on ratkaisevan tärkeä kohdemateriaalin käyttöiän ja vakauden parantamiseksi.

3) Korkea lämmönjohtavuus:
Molybdeenin lämmönjohtavuus on noin 138 W/m · K. Korkea lämmönjohtavuus on erittäin tärkeä kohteen lämpötilan hallinnassa nopean pinnoitteen aikana, mikä auttaa estämään kohteen ylikuumenemisen ja rakenteelliset vauriot.

4) Lämpölaajennuksen alhainen kerroin:
Molybdeenillä on alhainen lämpölaajennuskerroin noin 4,8 × 10^-6 / aste. Tämä ominaisuus tarkoittaa, että tuotteella on hyvä ulottuvuuden vakaus lämpötilan muutosten alla, mikä auttaa ylläpitämään kalvon laskeutumisprosessin johdonmukaisuutta ja tarkkuutta.

5) Korkea kovuus ja vahvuus:
Molybdeeni on Vickers -kovuus noin 2500 HV ja sillä on suuri mekaaninen lujuus. Tämä antaa tuotteelle kestää mekaaniset vaikutukset nopean pinnoitteen aikana.

6) Hyvä pinnan tasaisuus ja karheus:
Pinnan tasaisuus ja karheus ovat myös tärkeitä parametreja MO -kohteiden laadun arvioimiseksi. Hyvä pintakäsittely voi vähentää hiukkasten muodostumista kohteen käytön aikana ja parantaa kerrostetun kalvon tasaisuutta ja laatua.

Molybdeenikohdemateriaali voi muodostaa ohutkalvon substraatissa. Sitä käytetään laajasti:

- Puolijohteiden valmistus, elektroniset komponentit ja mikroelektroniikkateollisuus, integroidut piirit, tietojen varastointi, laservarastot, elektroniset ohjauslaitteet.
- Johtava lasi, optinen lasi, päällystetty lasiteollisuus (pääasiassa arkkitehtuurilasi, autoteollisuus, optinen kalvolasi jne.)
- Ionipinnoitus ja muut teollisuudenalat.
- ohutkalvo aurinkoenergian aurinkokennot.
- Lääketieteelliset kuvantamislaitteet.
- Litteät paneelinäytöt, nestemäiset kristallinäytöt, kosketusnäytöt.
- Autoteollisuusvalot, koristepinnoitteet sekä työkalu- ja homepinnoitteet jne.
-Sitä voidaan käyttää myös kulutuskestävässä materiaalissa, korkean lämpötilan korroosiomateriaaleissa jne.

1) korkea puhtaus
Valitsemme raaka-aineen korkean puhtaan molybdeenijauheen; Puhtaus on yli 99,95%, ja epäpuhtauselementtien käyttöönotto on tiukasti kontrolloitu valmisteluprosessin aikana. Se varmistaa, että ruiskutetulla elokuvalla on hyvä esitys.

2) Suuri tiheys
Valitsemme muodostumis- ja sintraustekniikan, joka voi saavuttaa nopean tiivistyksen, ja sputterointikohteen suhteellinen tiheys on yli 98%. Kohteen matalan huokoisuuden varmistamiseksi kohde, jolla on korkeampi tiheys, voi vähentää kalvohiukkasten roiskeita päällystysprosessin aikana parantaen siten kalvon laatua.

3) Pieni ja tasainen viljakoko
Tuottamillamme molybdeenikohteella on yhtenäisempi mikrorakenteen jakautuminen, se voi muodostaa tietyn kidesuunnan, ja jyvät ovat pieniä ja tasaisia. Kohdemateriaalin ruiskutusnopeus hienoilla jyillä on nopeampaa kuin karkeat jyvät, ja kohdemateriaalilla, jolla on pienempi ero viljakoko, on talletetun kalvon tasaisempi paksuusjakauma. MO -tavoitteen ruiskutussuoritus on parempi.

4) Laaja valikoima kohdemateriaaleja, joista valita
Molybdeenisputterointikohteita on monen tyyppisiä, jotka voimme tarjota sinulle. Muodon mukaan ne voidaan jakaa molybdeenipyöröihin, neliömäisiin kohteisiin, tangon kohteisiin ja putkikohteisiin. Materiaaliluokituksen mukaan ne voidaan jakaa puhtaisiin moly -kohteisiin ja molyseoksen kohteisiin.

5) Täysi tuotantolaitteet
Luoyang Rare Metal Research Material Co., Ltd: llä on täysi joukko laitteita, kuten suuret isostaattinen puristus, suuret tyhjiö- ja kaasunsuojaus sintrausuunit, suuret CNC -jyrsintäkoneet ja suuret CNC -hiomakoneet sekä kypsät tuotantoprosessit, jotka voivat massa tuottaa erityyppisiä tuotteita.

6) Täydellinen testauslaitteet
Pystymme tarjoamaan täydellisen joukon fyysisiä ominaisuuksien testauslaitteita, kuten tiheyttä, kovuutta, pinnan karheutta jne. Siksi, kun käytetään pyörrevirta -testaajia ja ultraäänilaitteita, voidaan tarkasti tarkistaa tuotteen mahdollisia sisäisiä vaurioita, kuten huokoset ja halkeamat, tuotteen korkean laadun varmistamiseksi.

Molybdeenikohteita tuotetaan jauhemetallurgialla.

Ensinnäkin molybdeenijauhe seulotaan ja ladataan muottiin puristamista varten.

Painamisen ja muodostumisen jälkeen se sintrataan keskitaajuuden induktiouunissa tai tyhjiö sintrausuunissa ja sitten rullattu ja koneistettu. Lopuksi se käsitellään valmiiksi kohdemateriaaliksi, joka täyttää asiakkaan koko ja pintavaatimukset.

Jauhemetallurgia tekee tuotteista tiheä, hyvä tasaisuus ja erinomainen suorituskyky mikrorakenteessa, ja sillä on myös lyhyen tuotantosyklin ominaisuudet, harvat prosessit, alhainen energiankulutus ja pieni materiaalihäviö.

Molybdeeni -sputterointikohdetta käytetään pääasiassa magnetronisputterointipinnoitteeseen, joka on uusi fysikaalinen höyryn laskeuma (PVD). Sputteroidun kohteen (katodi) ja anodin väliin lisätään ortogonaalinen magneettikenttä ja sähkökenttä, ja vaadittu inertti kaasu (yleensä AR -kaasu) täytetään korkeassa tyhjiökammiossa. Sähkökentän vaikutuksesta AR -kaasu ionisoidaan positiivisiin ioneihin ja elektroneihin. Kohteeseen kohdistetaan tietty negatiivinen korkea jännite. Magneettikenttä ja työkaasun ionisaation todennäköisyys lisääntyy kohteesta päästöistä, muodostaen korkean tiheyden plasman katodin lähellä. AR -ionit kiihdytetään lentämään kohdepintaan Lorentzin voiman vaikutuksen alla, pommittaen kohdepintaa erittäin suurella nopeudella, niin että kohteen sputteroidut atomit noudattavat vauhtia muuntamisperiaatetta ja lentävät substraattiin, jolla on korkeampi kineettinen energia muotoilun muodostamiseksi.

Suositut Tagit: Molybdeeni Target, Kiinan molybdeenikohdevalmistajat, toimittajat, tehdas